도청신도시 예천 2,091 : 산업재산권법령집...산업재산권법원본...

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  산업재산권법령집(産業財産權法令集(對照式)) [冊] : 감천면 진평리 출신인 윤선희(尹宣熙, 1957- , 漢陽大 敎授)의 편저로, 592쪽, 규격外, 법경출판사에서 1991년 3월 1일에 발행하였다.(daum 2008)

  산업재산권법원론(産業財産權法原論) [冊] : 예천 출신인 윤선희(尹宣熙, 1957- , 漢陽大 敎授)의 저서로, 32 802쪽, 27cm, 서울 법문사(法文社)에서 2002년에 발행한 <법학총서>에 수록되어 있다. 사항색인(789-802쪽), 주요판례(787-788쪽), 참고문헌(783-786쪽)이 포함되어 있다. [목차] : 목차/ 머리말 = 3/ 그림 및 표 차례 = 30/ 법령 약어 = 31/ 제1편 총론/ 제1장 산업재산권 개념 = 3/ 제1절 정보사화와 지적재산 = 3/ 제2절 산업재산권과 공업소유권 = 4/ 제2장 산업재산권의 내용과 분류 = 7/ 제1절 지적재산권법의 의의 = 8/ 제2절 산업재산권법의 분류 = 9/ Ⅰ. 창작법과 표지법 = 9/ Ⅱ. 권리부여법과 행위규제법 = 10/ 제3장 산업재산권법의 연혁 = 11/ 제1절 특허법의 연혁 = 11/ Ⅰ. 외국 특허법의 연혁 = 11/ 1. 특허제도의 기원 = 11/ 2. 영국 = 11/ 3. 프랑스 = 12/ 4. 미국 = 13/ 5. 독일 = 14/ 6. 러시아 = 14/ 7. 일본 = 15/ Ⅲ. 우리 특허법의 연혁 = 16/ 1. 초창기의 특허법 = 16/ 2. 특허법의 새로운 제정 = 18/ 3. 특허법의 일부개정 = 20/ 4. 1973년 특허법 전문 개정 = 20/ 5. 전문개정된 특허법의 일부개정 = 22/ 6. 파리협약가입과 특허법 개정 = 23/ 7. PCT 가입에 대비한 특허법 개정 = 24/ 8. 물질특허제도의 도입을 위한 특허법 개정 = 25/ 9. 1990년 특허법 전문 개정 = 26/ 10. 1993년 특허법 개정 = 28/ 11. 심판제도의 개혁을 위한 특허법 개정 = 28/ 12. UR／TRIPs의 내용을 반영한 특허법 개정 = 29/ 13. 등록 후 이의신청제도 도입에 따른 특허법 개정 = 30/ 14. 1999년 특허법 개정 = 31/ 15. 2001년 특허법 개정 = 31/ 제2절 실용신안법의 연혁 = 32/ Ⅰ. 외국 실용신안법의 연혁 = 32/ 1. 독일 = 33/ 2. 프랑스 = 34/ 3. 일본 = 34/ Ⅱ. 우리 실용신안법의 연혁 = 34/ 1. 미 군정법령으로 제정된 특허법 중 실용신안제도 = 34/ 2. 실용신안법의 개정 = 35/ 3. 1963년 실용신안법 개정 = 35/ 4. 1973년 실용신안법 전문개정 = 36/ 5. 파리협약 가입에 따른 실용신안법 개정 = 37/ 6. PCT 가입에 대비한 실용신안법 개정 = 37/ 7. 1986년 실용신안법 개정 = 38/ 8. 1990년 실용신안법 전문개정 = 38/ 9. 1993년 실용신안법 개정 = 39/ 10. 심판제도 개혁에 따른 실용신안법 개정 = 39/ 11. UR／TRIPs의 내용을 반영한 실용신안법 개정 = 40/ 12. 등록 후 이의신청제도 도입에 따른 실용신안법 개정 = 40/ 13. 1998년 실용신안법 개정 = 41/ 14. 2001년 실용신안법 개정 = 41/ 제3절 의장법 = 42/ Ⅰ.외국 의장법의 연혁 = 42/ 1. 의장제도의 기원 = 42/ 2. 프랑스 = 43/ 3. 영국 = 43/ 4. 독일 = 43/ 5. 미국 = 44/

  Ⅱ. 우리 의장법의 연혁 = 44/ 1. 의장법의 신규제정 = 44/ 2. 1973년의 의장법 전문개정 = 45/ 3. 파리협약가입과 의장법 개정 = 46/ 4. 1982년의 의장법 개정 = 47/ 5. 1986년의 의장법 개정 = 47/ 6. 1990년의 의장법전문 개정 = 47/ 7. 의장권리존속기간의 연장을 위한 의장법 개정 = 47/ 8. 의장출원공개제도 도입의 위한 의장법 개정 = 48/

  9. 1997년 의장법 개정 = 48/ 10. 1999년 의장법 개정 = 49/ 11. 2001년 의장법 개정 = 49/ 제4절 상표법 = 51/ Ⅰ. 외국 상표법의 연혁 = 51/ 1. 상표보호의 기원 = 51/ 2. 영국 = 51/ 3. 미국 = 52/ 4. 프랑스 = 52/ 5. 독일 = 52/ 6. 일본 = 53/ Ⅱ. 우리 상표법의 연혁 = 53/ 1. 상표법의 제정 = 53/ 2. 파리협약 가입과 상표법 개정 = 54/ 3. 1986년의 상표법 개정 = 55/ 4. 1990년의 상표법 전문개정 = 55/ 5. 1993년의 상표법 개정 = 56/ 6. 색채상표제도의 도입을 위한 상표법 개정 = 56/ 7. 1997년 상표법 개정 = 57/ 8. 1998년 상표법 개정 = 58/ 9. 2001년 상표법 개정 = 58/ 제4장 산업재산권의 국제화 = 60/ 제1절 산업재산권관련 국제협약 = 61/ Ⅰ. 산업재산권보호를 위한 파리협약 = 61/ 1. 의의 = 61/ 2. 특색 = 61/ 3. 보호대상의 범위 = 62/ 4. 파리협약의 3대 원칙 = 62/ Ⅱ. 특허제도의 통일화 작업 = 63/ 1. 아프리카․마다가스카르 특허협정 = 63/ 2. 유럽특허조약(EPC) = 63/ 3. 특허협력조약(PCT) = 64/ 4. 특허법조약 = 64/ 5. 특허법 통일화 조약 = 66/ Ⅲ. UR／TRIPs 협정 = 66/ 1. 구성 및 내용 = 66/ 2. 기본원칙 = 67/ 3. 보호기준 = 67/ 4. 시행절차 = 68/ 5. 분쟁예방 및 해결절차 = 68/ 6. 경과조치 = 68/ Ⅳ. 부다페스트조약 = 69/ Ⅴ. 기타 = 69/ 제2절 산업재산권 관련 국제기구 = 71/ Ⅰ. 세계지적재산권기구(WIPO) = 71/ 1. 목적과 임무 = 71/ 2. 주요활동 = 71/ Ⅱ. 세계무역기구(WTO) = 72/ Ⅲ. 국제산업재산권보호협회(AIPPI) = 73/ Ⅳ. 국제상업회의소(ICC) 및 위조상품정보국(CIB) = 73/ Ⅴ. 기타 = 74/ 제2편 특허법/ 제1장 특허법 총론 = 77/ 제1절 특허법의 목적 = 78/ Ⅰ. 발명의 보호 = 78/ 1. 의의 = 78/ 2. 발명의 장려 = 79/ Ⅱ. 발명의 이용 = 79/ 1. 발명의 공개 = 80/ 2. 발명의 실시 = 80/ Ⅲ. 산업발달 = 81/ Ⅳ. 특허제도의 원리 = 81/ 1. 기본권설 = 81/ 2. 산업정책설 = 82/ 제2절 특허법상의 발명(특허법의 보호대상)과 실시 = 83/ Ⅰ. 발명의 정의 = 83/ 1. 자연법칙의 이용 = 84/ 2. 기술적 사상의 창작 = 87/ 3. 고도성 = 89/ 4. 발명 성립요건의 심사 = 91/ Ⅱ. 발명의 종류 = 91/ 1. 물건의 발명과 방법의 발명 = 91/ 2. 기본발명과 개량발명 = 92/ 3. 독립발명과 종속발명 = 93/ 4. 직무발명, 업무발명 및 자유발명 = 93/ 5. 완성발명과 미완성발명 = 93/ 6. 결합발명과 비결합발명 = 94/ 7. 용도발명과 물질발명 = 94/ 8. 생명발명 = 95/ 9. 컴퓨터 관련 발명 = 101/ 10. 기타 = 106/ Ⅲ. 발명의 유사개념 = 106/ 1. 발명과 고안 = 106/ 2. 발명과 의장 = 106/ 3. 발명과 노하우 = 107/ Ⅳ. 실시 = 107/ 1. 의의 = 107/ 2. 실시의 태양 = 108/ 3. 실시행위의 독립성 = 110/

  제3절 특허절차상의 총칙 = 111/ Ⅰ. 특허절차상의 능력 = 111/ 1. 권리능력 = 111/ 2. 행위능력 = 114/ Ⅱ. 대리 = 117/ 1. 의의 = 117/ 2. 특허절차상의 대리인 = 118/ 3. 대리권/ 4. 대리제도 규정의 문제점 = 122/ 5. 절차 복수당사자의 대표자 = 124/ Ⅲ. 기일․기간 = 125/ 1. 기일 = 125/ 2. 기간 = 125/ Ⅳ. 절차의 효력과 정지 = 128/ 1. 절차 효력의 승계 및 속행 = 128/ 2. 절차의 보정과 무효 = 129/ 3. 절차의 정지 = 131/ 제2장 특허요건 = 135/ 제1절 특허를 받을 수 있는 발명 = 135/ Ⅰ. 산업상 이용 가능한 것 = 135/ 1. 산업의 개념 = 136/ 2. 이용가능성 = 138/ 3. 산업상 이용가능성의 판단 = 138/ Ⅱ. 신규성 = 139/ 1. 신규성판단의 기준 = 140/ 2. 신규성 상실사유 = 141/ 3. 신규성의 판단 = 148/ 4. 공지 등이 되지 아니한 발명으로 보는 경우 = 149/ 5. 확대된 범위의 선출원(공지의 의제) = 154/ Ⅲ. 진보성 = 158/ 1. 판단의 전제 = 158/ 2. 진보성의 판단 = 159/ Ⅳ. 선출원주의 = 164/ 1. 선출원의 지위 = 165/ 2. 선출원의 판단 = 166/ 3. 발명의 동일성 = 167/ 제2절 특허를 받을 수 없는 발명 = 168/ Ⅰ. 의의와 변천 = 168/ 1. 의의 = 168/ 2. 특허를 받을 수 없는 발명의 변천 = 169/ Ⅱ. 공공의 질서 또는 선량한 풍속을 문란하게 하거나 공중의 위생을 해 할 염려가 있는 발명 = 170/ 1. 공서양속을 문란하게 하는 발명 = 171/ 2. 공중의 위생을 해할 염려가 있는 발명 = 171/ Ⅲ. 동식물에 관한 발명 = 172/ Ⅳ. 국방상 필요한 발명 = 172/ 1. 외국에의 특허출원금지 = 173/ 2. 비밀취급 = 173/ 3. 특허를 받을 수 있는 권리의 수용 = 174/ 4. 보상 = 174/ 제3절 특허를 받을 수 있는 자 = 175/ Ⅰ. 특허를 받을 수 있는 권리(특허출원권) = 175/ 1. 발생 = 175/ 2. 법적 성질 = 176/ 3. 내용 = 177/ 4. 소멸 = 182/ Ⅱ. 특허를 받을 수 있는 권리자 = 182/ 1. 발명자주의 = 182/ 2. 발명자(자연인) = 183/ 3. 공동발명자 = 184/ 4. 승계인 = 185/ Ⅲ. 종업원의 발명 = 186/ 1. 의의 = 186/ 2. 종류 = 187/ 3. 직무발명 = 188/ 제3장 특허출원절차 = 198/ 제1절 의의 = 198/ 제2절 특허출원상의 제 원칙 = 198/ Ⅰ. 서면양식주의 = 198/ Ⅱ. 전자출원제도 = 199/ Ⅲ. 국어주의 = 200/ Ⅳ. 도달주의 = 201/ Ⅴ. 1특허출원의 원칙(發明의 單一性) = 202/ 1. 의의 = 202/ 2. 발명 단일성의 판단 = 203/ Ⅵ. 수수료납부주의 = 204/ 제3절 특허를 받을 수 있는 자(出願適格者) = 204/ Ⅰ. 권리능력 = 204/ Ⅱ. 행위능력 = 204/ 1. 의의 = 204/ 2. 일본 특허규정과의 비교 = 205/ Ⅲ. 특허를 받을 수 없는 자 = 207/ 1. 특허청 및 특허심판원 직원 = 207/ 2. 무권리자 = 208/ Ⅳ. 공동출원 = 208/ 1. 의의 = 208/ 2. 공동 출원할 수 있는 자 = 208/ 3. 공동출원절차 = 208/ 4. 각자 대표의 원칙 = 209/ 5. 공동출원 위반의 효과 = 209/

  제4절 출원서류 = 209/ Ⅰ. 특허출원서 = 210/ Ⅱ. 명세서 = 210/ 1. 기재사항 = 211/ 2. 명세서의 일반적 기재요령 = 214/ 3. 기타 명세서의 기재불비 = 215/ 4. 명세서의 기재요건에 대한 해석 = 215/ Ⅲ. 도면 = 216/ Ⅳ. 요약서 = 216/ Ⅴ. 기타의 첨부서류 = 217/ 1. 반드시 제출해야 하는 서류 = 217/ 2. 필요한 경우에 한하여 제출하는 서류 = 217/ 3. 특허출원 후 양도하는 경우 = 217/ 4. 분할출원인 경우 = 218/ Ⅵ. 특허청구범위 = 218/ 1. 의의 = 218/ 2. 특허청구범위의 기능 = 218/ 3. 기재요령 = 220/ 4. 청구항의 구성 = 225/ 5. 다항제 = 226/ 제5절 출원의 효과 = 228/ 제6절 특허출원에 있어서의 여러 제도 = 229/ Ⅰ. 보정제도 = 229/ 1. 의의 = 229/ 2. 보정의 범위 = 230/ 3. 보정의 효과 = 231/ 4. 국제특허출원의 특례 = 232/ Ⅱ. 출원분할 = 233/ 1. 의의 = 233/ 2. 분할출원의 요건 = 234/ 3. 분할출원절차 = 235/ 4. 분할출원의 효과 = 236/ Ⅲ. 이중출원제도 = 236/ 1. 의의 = 236/ 2. 이중출원의 요건 = 237/ 3. 이중출원절차 = 238/ 4. 이중출원의 효과 = 238/ 5. 국제출원의 특례 = 239/ Ⅳ. 우선권 = 240/ 1. 조약에 의한 우선권 = 240/ 2. 국내우선권 = 244/ Ⅴ. 출원의 포기 및 취하 = 252/ 1. 의의 = 252/ 2. 특허출원의 취하․포기 = 253/ 3. 심판청구의 취하 = 253/ 4. 취하․포기 절차 = 253/ 5. 취하․포기의 금지 = 254/ 제4장 특허출원의 심사 = 255/ 제1절 의의 = 255/ Ⅰ. 심사주의 = 255/ Ⅱ. 심사주의의 보완 = 256/ 제2절 심사제도의 개관 = 257/ Ⅰ. 심사의 주체 = 257/ 1. 심사관 = 257/ 2. 제3자 = 258

  Ⅱ. 심사의 객체 = 258/ 1. 특허출원 = 258/ 2. 특허이의신청 = 259/ 3. 심사전치된 출원 = 259/ Ⅲ. 선행기술조사 및 심사․소송절차의 중지 = 259/ 제3절 심사절차상의 여러 제도 = 259/ Ⅰ. 방식심사 = 259/ 1. 방식심사의 대상 = 260/ 2. 방식심사 = 261/ 3. 국제출원의 경우 = 261/ Ⅱ. 불수리처분 = 262/ 1. 의의 = 262/ 2. 불수리사유 = 262/ 3. 불수리처분 및 효과 = 264/ 4. 불수리처분에 대한 불복 = 264/ Ⅲ. 출원공개제도 및 조기공개제도 = 265/ 1. 의의 = 265/ 2. 출원공개의 절차 = 266/ 3. 출원공개의 효과 = 267/ 4. 출원공개의 예외 = 271/ 5. 국제특허출의 특례 = 271/ Ⅳ. 출원심사청구제도 = 272/ 1. 의의 = 272/ 2. 출원심사의 청구 = 273/ 3. 심사청구의 효과 = 274/